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उत्पत्ति के प्लेस: | चीन |
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ब्रांड नाम: | FUNSONIC |
प्रमाणन: | CE |
मॉडल संख्या: | एफएसडब्ल्यू-3002-एल |
न्यूनतम आदेश मात्रा: | 1 इकाई |
मूल्य: | Negotation |
पैकेजिंग विवरण: | कार्टन द्वारा पैक किया गया |
भुगतान शर्तें: | टी/टी, वेस्टर्न यूनियन |
आपूर्ति की क्षमता: | प्रति माह 1000 यूनिट |
उत्पादन का नाम: | 30Khz स्कैटरिंग अल्ट्रासोनिक नोजल परमाणुकरण | आवृत्ति: | 30 किलोहर्ट्ज़ |
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अधिकतम शक्ति: | 1-15W | स्वचालित कण आकार सीमा: | 15-40μm |
स्प्रे प्रवाह: | 0.5-20 मि.ली | तरल चिपचिपापन: | <30सीपीएस |
कण आकार: | <12μm | आवेदन: | फ्लक्स की पूरी सतह पर छिड़काव के लिए उपयुक्त |
प्रमुखता देना: | प्रकाश प्रतिरोधी कोटिंग अल्ट्रासोनिक नोजल,30Khz अल्ट्रासोनिक फैलाव नोजल,अर्धचालक वेफर अल्ट्रासोनिक नोजल |
विशिष्ट अनुप्रयोग अर्धचालक वेफर फोटोरेसिस्ट कोटिंग अल्ट्रासोनिक नोजल 30Khz फैलाव
विवरण:
फैलाव प्रकार अल्ट्रासोनिक नोजल एक चक्रवात शंकु स्प्रे के साथ एक अल्ट्रासोनिक atomizing नोजल है। यह अल्ट्रासोनिक atomization नोजल प्रौद्योगिकी का उपयोग करता है,और विशेष भंवर प्रवाह चैनल डिजाइन के माध्यम से, वाहक गैस को एक समान घूर्णन हवा के प्रवाह में परिवर्तित किया जाता है, ताकि तरल धुंध का अल्ट्रासोनिक परमाणुकरण चक्रवात स्प्रे के रूप में फैल जाए,एटोमाइज़र के स्प्रे क्षेत्र का विस्तार करनाअल्ट्रासोनिक नोजल को ऊर्ध्वाधर या घुमावदार सतहों और तेज किनारों वाले अन्य सब्सट्रेट पर भी छिड़का जा सकता है।
पैरामीटरः
मॉडल | एफएसडब्ल्यू-3002-एल |
नाम | 30Khz फैलाव अल्ट्रासोनिक नोजल परमाणुकरण |
आवृत्ति | 30 किलोहर्ट्ज |
परमाणुकृत कण आकार सीमा ((μm) | 15-40 |
छिड़काव चौड़ाई ((मिमी) | 40-80 |
छिड़काव प्रवाह ((ml/min) | 0.5-20 |
छिड़काव ऊंचाई ((मिमी) | 30-80 |
तरल चिपचिपाहट (सीपीएस) | <30 |
कण आकार (μm) | <15 |
विचलन दबाव (एमपीए) | <0.05 |
आवेदन | अर्धचालक चिप्स पर फोटोरेसिस्ट कोटिंग के लिए उपयुक्त |
पारंपरिक छिड़काव तकनीकों की तुलना में, अल्ट्रासोनिक छिड़काव के निम्नलिखित फायदे हैंः
1. छिड़काव एकरूपता: अल्ट्रासोनिक छिड़काव छोटे छिड़काव कणों के उत्पादन के द्वारा अधिक समान कोटिंग कवरेज प्राप्त कर सकता है। यह एकरूपता कोटिंग की मोटाई अंतर को कम कर सकती है,कोटिंग की गुणवत्ता और उपस्थिति में सुधार.
2उच्च दक्षता और ऊर्जा की बचतः अल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रभावी रूप से तरल पदार्थ को छोटे छिड़काव कणों में बदल सकता है, ताकि उच्च छिड़काव दक्षता प्राप्त हो सके।पारंपरिक छिड़काव तकनीकों की तुलना में, यह कोटिंग और सॉल्वैंट्स के उपयोग को बचा सकता है, और छिड़काव प्रक्रिया के दौरान ऊर्जा की खपत को कम कर सकता है।
3. ठीक नियंत्रणः अल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रौद्योगिकी छिड़काव प्रक्रिया का ठीक नियंत्रण प्राप्त कर सकते हैं। अल्ट्रासोनिक कंपन की आवृत्ति, आयाम और छिड़काव मापदंडों को समायोजित करके,कण का आकारविभिन्न अनुप्रयोग आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए स्प्रे के वितरण और छिड़काव गति को सटीक रूप से नियंत्रित किया जा सकता है।
4एयरोसोल फैलाव को कम करें: अल्ट्रासोनिक स्प्रेइंग द्वारा उत्पादित स्प्रे कण छोटे होते हैं, जो पारंपरिक स्प्रेइंग तकनीक की तुलना में एयरोसोल फैलाव को कम कर सकते हैं।यह पर्यावरण और ऑपरेटरों के स्वास्थ्य और सुरक्षा के लिए फायदेमंद है.
5विशेष सामग्री के लिए उपयुक्त: अल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रौद्योगिकी विभिन्न प्रकार की तरल सामग्री के लिए उपयुक्त है, जिसमें उच्च चिपचिपाहट वाले तरल पदार्थ, उच्च ठोस सामग्री वाले तरल पदार्थ,नैनोकण निलंबनइसके विपरीत, पारंपरिक छिड़काव तकनीक इन विशेष सामग्रियों को प्रभावी ढंग से छिड़काव करने में सक्षम नहीं हो सकती है।
यह ध्यान दिया जाना चाहिए कि अल्ट्रासोनिक छिड़काव तकनीक में भी कुछ सीमाएं और लागू शर्तें हैं,जैसे कि अपेक्षाकृत उच्च उपकरण लागत और तरल पदार्थों के भौतिक और रासायनिक गुणों के लिए कुछ आवश्यकताएंछिड़काव तकनीक का चयन करते समय, विशिष्ट अनुप्रयोग आवश्यकताओं और तकनीकी विशेषताओं पर व्यापक रूप से विचार करना आवश्यक है।
विशिष्ट अनुप्रयोग अर्धचालक वेफर फोटोरेसिस्ट कोटिंग अल्ट्रासोनिक नोजल 30Khz फैलाव